IBS/e／
イオンビームスパッタコーターアプリケーション

機械研磨では、研磨の際に発生するキズが入ってしまい本来の表面を得ることが出来ない為、問題となっていました。イオンビーム研磨では、研磨の傷などが入ることなく、本来の表面構造を観察することが出来ます。

機械研磨では難しいとされるEBSDの前処理研磨をIBSイオンビーム研磨を用いて短時間かつ、高精度に実現。

シリコン基板上にPdをコーティングし比較表面の形状を比較しました。下左図のDCマグネトロンスパッタでは、ラフネスが大きい画像となっていますが、下右図のIBS/eでは非常にスムーズな画像が確認出来ます。

IBS/eは従来の高出力エネルギーガンとは異なり、低加速・高電流で広範囲の照射を可能としました。100eV-1200eVの加速電圧は、EBSDの前処理に最適で、従来難しかったEBSDの前処理を広範囲で可能にしました。

SEM顕微鏡写真は、市販の純チタンの画像です。 この試料は、コロイダルシリカの研磨後、600V・5mAで4回20分間フォーカシング・オプティックスを使用してイオンビーム研磨を行い、その後600V・5mAで55回4分間Arでエッチングした。 上の写真ではサンプル本来の表面が出てきていないが、表面をエッチングすることで本来の構造を観察することが出来ます。

軟質半田ボールは機械による研磨後断面に傷やダレが入り、観察が困難でした。 イオン研磨後にイオンビーム研磨をすることによって、鮮明に微細構造が見えるようになりました。