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名古屋052-686-4794 仙台022-218-0560
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試料ブロックは研磨盤に対し平行に取り付けられた2本のステンレスガイド上を左右に往復運動します。
研磨盤の回転円運動とプレートホルダーの直線往復運動の組合せにより「８の字」に近い運動で研磨が行われ、極めてフラットに研磨されます。
また、カウンターバランス機構による一定荷重は、硬い試料だけではなく軟らかい試料、複合試料での鏡面研磨など、目的・用途に合わせた研磨ができます。
SEMによる断面・表面観察、EPMA, AESなどの表面分析の前処理にも最適です。
試料は吸着式プレートホルダーに保持されて研磨されます。
プレート（スライドガラス）及び研磨面が全て研磨盤に対して平行になるため、片べりなく薄さ30μm以下の精密研磨が出来ます。
付属のデジタルマイクロメーターは研磨量を逐次的に1μm単位でモニターでき、研磨量の設定、自動終了させることができます。
吸着プレートホルダーを採用することにより、研磨途中でプレートを装置から外し、厚さの計測や顕微鏡での表面状況を観察することができます。計測・観察後は同じ位置にサンプルを取り付けることができます。
光学顕微鏡による断面・表面・透過観察、走査電子顕微鏡による断面・表面観察、EPMA/AESなどの表面分析等の試料前処理用として優れた性質を持つ、超精密研磨装置です。
生体サンプルでガラス標本を作成する際に、脱落が発生してサンプルが没になることがあったが、MG-400では発生しなくなった。
特に近年ではインプラントに使われるチタンなども含んでいるサンプルが増加して難易度が上がっているがMG-400では問題なくガラス標本を作成出来ている。
資料請求などもこちらからどうぞ。お気軽にお問い合わせください。
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