様々なサンプルに対応した万能スパッタリング装置
同一チャンバー内でイオンエッチングもできます

IBS/e イオンビームスパッタコーター

IBS/e イオンビームスパッタコーター

通常のマグネトロンスパッタとは異なり、アルゴンガスを用いた気相中でのコーティング。 蒸着減の粒子がより細かく均一になり、同一チャンバー内でアルゴンガスによるイオンビームエッチングも出来ます。
特長
  • φ100mmまでの試料をコーティング出来ます。
  • また、サンプル台の回転速度、傾斜角度、傾斜速度を
    コーティング中でも操作出来ます。
  • 様々なサンプルのコーティングができます。
  • ibseの中

    ● エッチング・ポリッシングも同一チャンバー内で実施
    ステージの角度を調節することで、ポリッシングと
    エッチングを使い分けることが可能です。

    角度調整イメージ図

    ● 2つの電子銃でスパッタリングを行います
    コーティング中に、ステージの角度と回転の調節を行え
    ます。Φ50mm以上の広範囲に10Å以上のハイレゾリューションな膜生成を行えます。
    2つの電子銃(イメージ図)
    ● 蒸着源も15種類からニーズに合ったものを選択頂けます
    ターゲット 顕微鏡タイプ 倍率 使用用途
    Au,Au/Pd STANDARD SEM <2,000X 低倍の観察に
    Ir,Pt FESEM,FETEM <200,000X 両方は粒状組織において類似しています。
    イリジウムの方が電子線よりサンプルを
    保護する機能が優れています。
    Ta,Ti,W,Cr FESEM,FETEM <200,000X 50万倍でも粒状性が見えません。
    C FESEM,FETEM <500,000X EDXなど分析時のコーティングに
    ●KDC-10イオン源
    KDC-10はφ1cmのイオン源です。IBS/eにKDC-10システムを搭載することでより広範囲の低加速プラズマ照射が可能となります。EBSDの処理に最適です。
    →エッチング事例はこちらから



    IBS/e KDC-10
    加速電圧 3000-4000eV 100-1200eV
    ibseアプリケーション

    最小限の熱ダメージで観察


    チーズ製品のアプリ
    IBS/eを使用してコーティングを行った、チーズ製品のSEM画像です。 イオンビームスパッタリングの特性により、コーティング時に従来問題になっていたサンプルへの熱ダメージを最小限に抑えることが出来、本来の表面構造を観察することが出来ます。


    イオンビーム研磨と機械研磨との比較画像

    機械研磨との比較画像

    機械研磨では、研磨の際に発生するキズが入ってしまい本来の表面を得ることが出来ない為、問題となっていました。イオンビーム研磨では、研磨の傷などが入ることなく、本来の表面構造を観察することが出来ます。


    EBSD処理の比較

    機械研磨では難しいとされるEBSDの前処理研磨をIBSイオンポリッシュを用いて短時間かつ、高精度に実現。



    DCマグネトロンスパッタとの比較

    DCマグネトロンスパッタとの比較

    シリコン基板上にPdをコーティングし比較表面の形状を比較しました。下左図のDCマグネトロンスパッタでは、ラフネスが大きい画像となっていますが、下右図のIBS/eでは非常にスムーズな画像が確認出来ます。



    一般的な高出力エッチング装置との比較

    コインを使った照射比較

    IBS/eは従来の高出力エネルギーガンとは異なり、低加速・高電流で広範囲の照射を可能としました。100eV-1200eVの加速電圧は、EBSDの前処理に最適で、従来難しかったEBSDの前処理を広範囲で可能にしました。



    KDC-10を使用したチタンエッチング例

    KDC-10を使用したチタン

    SEM顕微鏡写真は、市販の純チタンの画像です。 この試料は、コロイダルシリカの研磨後、600V・5mAで4回20分間フォーカシング・オプティックスを使用してイオンポリッシングを行い、その後600V・5mAで55回4分間Arでエッチングした。 上の写真ではサンプル本来の表面が出てきていないが、表面をエッチングすることで本来の構造を観察することが出来ます。



    半田ボールのエッチング事例

    半田ボールのエッチング事例

    軟質半田ボールは機械による研磨後断面に傷やダレが入り、観察が困難でした。 イオン研磨後にイオンエッチングをすることによって、鮮明に微細構造が見えるようになりました。

    ibse仕様
    ポンプシステム Roughing Pump : 40l/mN2
    Turbo Pump : 250l/sN2
    Base Pressure 10-7Toor
    Operating Pressure X10-5Toor (真空引き時間:5-15分)
    Ion Sources ビームエネルギー : 2.5-10kV 、 ビームフラックス : 15mA/cm2
    ステージ仕様 ステージの傾き : 0-99°、 回転速度 : 3.5-30RPM
    ガス仕様 ソースガス : Ar 99.999% Pure(プレッシャー : 2sccm@5-7PSI)
    ベントガス : N2@TPSI
    電源 110V/15A 50Hz/60Hz
    サイズ・重量 高さ:48.26cm 横幅:71.2cm 奥行:76.2㎝ 重量:54.43㎏

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