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PE-2000/
プラズマエッチング装置特長

PE-2000 プラズマエッチング装置(特長)

大気・酸素・アルゴン・CF4等
各種活性ガスを使用

  • 高効率RFプラズマ法と低電圧バイアス制御により、イオンシリングや電解研磨等で出来たアモルファス層をダメージフリーで除去。

  • 出力(0~150 W 無段階調整)と、処理時間(0 ~ 99時間)設定でき、様々な条件での処理ができます。

  • 独立したベントポートを装備し、処理後大気導入だけではなく、窒素ガス、Arガスの導入も可能です。

  • フォトレジストストリップ、酸化膜や窒化層の除去エッチング、プラスチックの表面処理、高分子材料等のクリーニングなど応用範囲は様々です。

  • 試料ステージ:Φ150㎜
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